СОДЕРЖАНИЕ
Введение
1. Нанесение пленок в вакууме
2. Метод термического испарения
3. Степени вакуума
Возможно вы искали - Курсовая работа: Электромагнитные переходные процессы в электроэнергетических системах
4. Средняя длина свободного пути молекул
5. Влияние вакуума на процесс нанесения пленок
6. Вакуумные системы
6.1 Общие сведения
6.2 Средства получения вакуума
Похожий материал - Курсовая работа: Электромеханические переходные процессы
6.3 Средства измерения вакуума
Заключение
Литература
Введение
Широкое применение в радиоэлектронике получили тонкие металлические, полупроводниковые и диэлектрические пленки, выращиваемые на неориентирующих и ориентирующих подложках.
Очень интересно - Курсовая работа: Эпитаксиальный рост простых полупроводников Si и Ge на поверхности Si(111)
Основными методами получения пленок на не ориентирующих является вакуумное испарение, ионное распыление и химическое осаждение.[1]
Технология нанесение тонких пленок и создание вакуума в рабочих камерах установок базируются на молекулярно-кинетической теории строения вещества.
Вещества в природе состоят из мельчайших частиц – молекул, которые могут существовать самостоятельно и обладают всеми свойствами данного вещества.
Наблюдения за поведением любого вещества показали, что его молекулы находятся в постоянном беспорядочном движении независимо от того, в каком находится состоянии вещество: жидком, твердом или газообразном. Это движение обусловлено внутренней кинетической энергией вещества, которая связана с его температурой. Поэтому беспорядочное движение, в котором находятся молекулы, называют тепловым, а теорию, изучающую тепловое движение молекул, – кинетической теории материи.
Если твердое подвергнуть нагреву, то при некоторой температуре оно начнет размельчаться и превращаться в жидкость. При дальнейшем нагревании жидкость начинает испаряться, превращаясь в пар, т.е. переходит в газообразное состояние.
Вам будет интересно - Контрольная работа: Анализ цикла паротурбинной установки
Разреженное состояние газа, т.е. состояние, при котором давление газа в некотором замкнутом герметичном объеме ниже атмосферного, называют вакуумом.[2]
1. Нанесение пленок в вакууме
Процесс нанесения тонких пленок в вакууме состоит в создании потока частиц, направленного в сторону обрабатываемой подложки, и последующей их конденсации с образованием тонкопленочных слоев на покрываемой поверхности.
Таким образом, при нанесении тонких пленок одновременно протекают три основных процесса: генерация направленного потока частиц, осаждаемого вещества; пролет частиц в разряженном (вакуумном) пространстве от их источника к обрабатываемой поверхности; осаждение (конденсация) частиц на поверхности с образованием тонкопленочных слоев.
В соответствии с этим вакуумные установки для нанесения тонких пленок, несмотря на многообразие их назначения и конструктивного оформления, состоят из следующих основных элементов: источника генерации потока частиц осаждаемого материала; вакуумной системы, обеспечивающей требуемые условия для проведения технологического процесса; транспортно позиционирующих устройств, обеспечивающих ввод подложек в зону нанесения пленок и ориентирования обрабатываемых поверхностей относительно потока частиц наносимого материала.
Похожий материал - Курсовая работа: Движение тела под действием силы тяжести
Процесс нанесения тонких пленок в вакууме состоит из следующих операций:
- установки и закреплении подлежащих обработке подложек на подложкодержателе при поднятом колпаке;
- закрытии (герметизации) рабочей камеры и откачки ее до требуемого вакуума;
- включении источника, создающего атомарный (молекулярный) поток осаждаемого вещества;